Главная
Новости
Строительство
Ремонт
Дизайн и интерьер



30.10.2024


30.10.2024


27.10.2024


27.10.2024


19.10.2024





Яндекс.Метрика





Лазеры в производстве электроники и микроэлектроники: новые разработки и перспективы



Ни для кого не секрет, что лазеры в производстве стали инновационным решением, при помощи которого качество изготовления деталей сильно повысилось. А если говорить о создании микропроцессоров, то без лазерной технологии и вовсе было бы невозможно осуществлять разработку современных транзисторов. Это связано с их невероятно мелкими размерами, которые едва превышают несколько микрон. Разумеется, что создание и обработка подобных деталей осуществляется именно лазером. Далее будут описаны наиболее современные разработки, связанные с лазерным производством микропроцессоров.

Ультракороткие импульсные лазеры

Данная технология стала настоящим прорывом, поскольку при её помощи удалось начать работу с хрупкими полимерными материалами, которые плохо переносят перегрев. Для регуляции температуры, обработка осуществляется методом ультракоротких импульсных воздействий. Таким образом, создаются крупные интервалы между импульсами, что позволяет деталям охлаждаться и не нарушать собственную структуру. Как же это повышает точность обработки, поскольку воздействие осуществляется локально. Отметим, что для некоторых производств может потребоваться лазерный гравер по металлу купить.

Лазеры для 3D производства

Данная технология позволяет использовать сложные композиты для производства трёхмерных моделей. Благодаря воздействию пучков света, происходит спекание полимерных структур с высокой точностью. Это позволяет создавать детали для микропроцессоров путем трехмерной технологии.

Литография

Но самая прорывная технология современности – это ультрафиолетовая литография, которая осуществляется при помощи лазера. Современные процессоры настолько мелкие, что создавать транзисторы стало невозможно классическим способом. Поэтому используется лазер с ультракороткими волнами, который разбивает капли композитного материала и формирует из них ультратонкие структуры, размером меньше пяти нанометров. Отметим, что для разных способов производства микропроцессоров может использоваться литография отличающегося типа. К примеру, экстремальная и глубокая ультрафиолетовая литография сильно отличаются друг от друга по своим возможностям. Первый вариант отлично подходит для деталей сверхмалого размера, а второй сильно повышает качество за счёт возможности воздействия повышенной длительности.